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中小企業の皆様が運営している給油所の地下タンク周囲に設置されている漏えい検査管から水、ガスを採取し、その中に含まれるベンゼン、鉛、及び油分を調査する際に、その検査費用の一部を国が支援する制度です。
給油所の敷地に一例として１０メートル四方の区画を設定し、その全区画の土壌及び地下水をボーリング方式により採取し、それらの試料に含まれるベンゼン、鉛、及び油分の含有量等を調査する際に、その調査費用の一部を補助します。
補助金の額は補助対象経費の合計額、または基準単価により算定した経費の合計額のいずれか低い額（上限２００万円）の３分の１（最大６６６，６６６円）となります。
（公財）岐阜県産業経済振興センターでは、県内中小企業の海外展開の支援の一環として、特許、商標、意匠、実用新案の外国出願にかかる費用の半額を補助しています。このたび、補助金の申請企業の募集を開始しますので、お知らせします。
補助率 補助対象経費の１／２以内
補助額 １企業に対する１会計年度内の上限額：３００万円
案件ごとの上限額：特許１５０万円、実用新案・意匠・商標６０万円、冒認対策商標３０万円
三重県の中小企業がおこなう、外国への特許、実用新案、意匠、商標（冒認対策商標を含む）に係る出願費用の一部を補助します。
原則１企業１出願、補助対象経費の１／２以内
＜案件ごとの補助金上限額＞
●特許出願：１５０万円
●実用新案・意匠・商標登録出願：６０万円
●冒認対策商標出願：３０万円
給油所の敷地で、あらかじめボーリング等で採取した土壌及び地下水を分析した結果、ベンゼン・鉛は基準値を超えていないが油分、油臭・油膜が含まれた土壌があり、しかもその土壌の範囲が明確な場合において、その土壌等の除去及び処理等を行う際に費用の一部を補助します。
補助金の額は補助対象経費の合計額、または基準単価により算定した経費の合計額のいずれか低い額（上限３００万円）の３分の１（最大１００万円）となります。
運営している給油所の地下埋設タンクまたは地下埋設配管から石油製品等が漏えいしていないかどうかを、「危険物の規制に関する技術上の基準の細目を定める告示に定める方法」で確認する際に、その検査費用の一部を国が支援する制度です。
補助対象経費について３０万円を上限とし、その３分の１ （最大１０万円）まで交付いたします。
地下埋設タンク･配管二次工事検査とは、中小企業の皆様が運営している給油所において①消防法に定める地下タンク等の漏れの点検を実施し、②タンクと配管を気相部微加圧検査などで一括して行い、異常が認められた場合に、③地下埋設タンクに異常があるのか、配管に異常があるのか不明なので、④異常箇所を特定するために、点検マンホールにあるタンクと配管の継ぎ手部分を分離してタンク･配管を個別に検査するもので、その検査にかかる費用の一部を国が支援する制度です。
補助金の額は、補助の対象経費について、１００万円を上限とし、その３分の１（最大３３３，３３３円）までを交付します。
岐阜県では、都市部から県内へサテライトオフィスを誘致するため、サテライトオフィスの設置を検討している県外の法人が、県内へのサテライトオフィス施設を体験する場合に、必要な経費の一部を支援します。
・補助率：3分の2以内
・限度額
短期滞在型（3日以上15日未満）20万円・中期滞在型（15日以上30日未満） 30万円
長期滞在型（30日以上）40万円
補助対象期間：交付決定日から令和5年2月10日（金曜日）まで
※期間内であっても、予算がなくなり次第終了となります。
「半導体・デジタル産業戦略」において重要技術に位置づけられ、かつ基本計画の【研究開発項目〔4〕】「AIエッジコンピューティングの産業応用加速のための技術開発」に該当する領域のうち、2022年度時点でNEDO事業において実施していない領域について先だって開発課題を設定し、公募を行うものとします。
具体的には、AIエッジコンピューティング向け半導体設計の効率化に関する研究開発を募集するものであり、産業応用を見据えて活用可能な設計技術等を、委託事業または助成事業として広く募集します。
委託事業：上限額５億円
助成事業：上限額５億円
・大企業：補助率1/2 ・中堅・中小・ベンチャー企業：2/3
第4世代移動通信システム（4G）と比べてより高度な第5世代移動通信システム（5G）は、現在各国で商用サービスが始まっていますが、更に超低遅延や多数同時接続といった機能が強化された5G（以下、「ポスト5G」という。）は、今後、工場や自動車といった多様な産業用途への活用が見込まれており、我が国の競争力の核となり得る技術と期待されています。
NEDOは、本事業において将来的に、ポスト5G情報通信システムで用いられる先端半導体を国内で製造できる技術を確保するため、先端半導体のシステム設計技術や、製造に必要な実装技術や微細化関連技術等の我が国に優位性のある基盤技術等の開発に取り組みます。
本公募では、研究開発計画における以下の開発テーマを対象とします。研究開発計画の要件等を満たすよう応募をしてください。
