全国:(i1)高歪みウエハに対応した高精度露光装置開発【GX】ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業/先端半導体製造技術の開発(補助)

上限金額・助成額1,250,000万円
経費補助率 50%

第4世代移動通信システム(4G)と比べてより高度な第5世代移動通信システム(5G)は、現在各国で商用サービスが始まっていますが、更に超低遅延や多数同時接続といった機能が強化された5G(以下、「ポスト5G」という。)は、今後、工場や自動車といった多様な産業用途への活用が見込まれており、我が国の競争力の核となり得る技術と期待されています。経済産業省及びNEDOにて取り組む「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」では、研究開発の進捗や技術動向・市場動向、半導体・デジタル産業戦略検討会議での議論等を踏まえ、経済産業省が定める研究開発計画に基づき、ポスト5Gに対応した情報通信システムの中核となる技術の開発研究として、「先端半導体製造技術の開発」を実施しています。

NEDOは、本事業において将来的に、ポスト5G情報通信システムで用いられる先端半導体を国内で設計・製造できる技術を確保するため、以下の開発に取り組みます。

本公募では、研究開発計画における以下の開発テーマを対象とします。公募要領の要件等を満たすよう応募をしてください。

〔2〕先端半導体製造技術の開発(補助)
(i)先端半導体製造装置開発
(i1)高歪みウエハに対応した高精度露光装置開発【GX】

【補助率詳細】
提案 1 件当たりの初回ステージゲート審査までの提案時補助費は、原則として 125 億円以下(NEDO 負担率:1/2)とする。
【対象経費】
I. 機械装置等費
II. 労務費
III. その他経費(消耗品費、旅費、外注費、諸経費)
IV. 委託費・共同研究費


国立研究開発法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)
大企業,中堅企業,中小企業者,小規模企業者
〔2〕先端半導体製造技術の開発(補助)
(i)先端半導体製造装置開発
(i1)高歪みウエハに対応した高精度露光装置開発【GX】

2026/03/13
2026/04/23
【応募要件】
・補助対象事業者
補助事業者は、次の要件(交付規程第 5 条等)を満たす、単独ないし複数で補助を希望す
る、企業・大学等であることが必要です。ただし、研究機関等による単独提案は不可とし、
国立研究開発法人が応募する場合、国立研究開発法人から民間企業への委託又は共同研究
(委託先又は共同研究先へ資金の流れがないものを除く。)は、原則認めておりませんので
ご留意ください。
i. 補助事業を的確に遂行するに足る技術的能力を有すること。
ii. 補助事業を的確に遂行するのに必要な費用のうち、自己負担分の調達に関し十分
な経理的基礎を有すること。
iii. 補助事業に係る経理その他の事務について的確な管理体制及び処理能力を有す
ること。
iv. 当該補助事業者が遂行する補助事業が、別途定める基本計画を達成するために十
分に有効な研究開発を行うものであること。
v. 当該補助事業者が補助事業に係る企業化に対する具体的計画を有し、その実施に
必要な能力を有すること。
vi. 本邦の企業・大学等で日本国内に研究開発拠点を有していること。なお、国外の
企業・大学等(研究機関を含む)の特別な研究開発能力、研究施設等の活用又は
国際標準獲得の観点から国外の企業・大学等との連携が必要な場合は、国外の企
業・大学等も参画する形で実施することができる。
vii. 当該補助事業者が補助事業を国際連携による共同研究案件として実施すること
を目指している場合は、連携する国外の企業等(補助対象事業者には含まない)
と共同研究にかかる契約・協定等を締結すること(又は連携の具体的予定を示す
こと)ができること。また、知財権の取扱いを適切に交渉、管理する能力を有す
ること。

viii. 補助事業の実施を通じ、「GX リーグ参画企業に求める取組(https://gx-
league.go.jp/rules/gx-guidance/)」と同様の GX に係る取組を実施することを

想定し、現在実施している内容及び交付決定した場合において実施する内容を
(別添 8)の「GX に係る取組申告書」に記載し、これを提出すること。また、「GX
に係る取組申告書」には、補助事業の実施による脱炭素(二酸化炭素削減)効果
や目標、それらを定量的に把握するための体制・方法等について記載すること。

・補助対象事業
補助事業として次の要件を満たすことが必要です。
i. 補助事業が、研究開発計画に記載された内容の実用化開発を行うものであること。
ii. 補助事業終了後直ちに実用化を目指す上での開発計画、投資計画、実用化能力の
説明を行うこと(提案書の添付資料 2「事業化計画書」中に記載してください。)。
iii. 補助事業終了後、本事業の実施により、国内生産・雇用、輸出、内外ライセンス
収入、国内生産波及・誘発効果、国民の利便性向上等、様々な形態を通じ、我が
国の経済に如何に貢献するかについて、バックデータ※も含め、具体的に説明す
ること(提案書の添付資料 1「補助事業実施計画書」の「1.(1)3事業による効
果」中に記載してください。)(我が国産業の競争力強化及び新規産業創出・新規
企業促進への波及効果の大きな提案を優先的に採択します。)。
※バックデータ:上記の基礎となる主要な事項(背景、数値等)
iv. なお、当該補助事業終了後、追跡調査や特許等の取得状況及び事業化状況調査に
ご協力いただく場合があります。
v. 補助事業の事務処理については、NEDO が提示する事務処理マニュアルに基づき
実施すること。
vi. 脱炭素成長型経済構造移行推進戦略※を踏まえて、CO2 の排出削減に向けた野心
的な目標を掲げるなど世界規模でのカーボンニュートラルの実現及び日本の産
業競争力の強化のためのイノベーションを創出しうるものを対象とし、デジタル
化や電化等の対応に不可欠な省エネ性能の高い半導体等の開発であること。また、
脱炭素成長型経済構造移行推進戦略にある「国による投資促進策の基本原則」に
則したものであること。
※https://www.meti.go.jp/press/2023/07/20230728002/20230728002-1.pdf

2026 年 4 月 13 日:公募締切
2026 年 5 月下旬(予定):一次採択審査委員会(商務情報政策局)
2026 年 5 月下旬(予定):二次採択審査委員会(NEDO)
2026 年 6 月上旬(予定):契約・交付審査委員会(NEDO)
2026 年 6 月中旬(予定):採択先決定
2026 年 6 月下旬(予定):ウェブサイトに公表
2026 年 8 月上旬(予定):交付決定
※採択審査委員会の日程等により前後に変動の可能性あり。

半導体・情報インフラ部 ポスト5G室 担当者:久保田、青柳、東、小村、鈴木、守屋 E-mail:post5G_koubo7@ml.nedo.go.jp

第4世代移動通信システム(4G)と比べてより高度な第5世代移動通信システム(5G)は、現在各国で商用サービスが始まっていますが、更に超低遅延や多数同時接続といった機能が強化された5G(以下、「ポスト5G」という。)は、今後、工場や自動車といった多様な産業用途への活用が見込まれており、我が国の競争力の核となり得る技術と期待されています。経済産業省及びNEDOにて取り組む「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」では、研究開発の進捗や技術動向・市場動向、半導体・デジタル産業戦略検討会議での議論等を踏まえ、経済産業省が定める研究開発計画に基づき、ポスト5Gに対応した情報通信システムの中核となる技術の開発研究として、「先端半導体製造技術の開発」を実施しています。

NEDOは、本事業において将来的に、ポスト5G情報通信システムで用いられる先端半導体を国内で設計・製造できる技術を確保するため、以下の開発に取り組みます。

本公募では、研究開発計画における以下の開発テーマを対象とします。公募要領の要件等を満たすよう応募をしてください。

〔2〕先端半導体製造技術の開発(補助)
(i)先端半導体製造装置開発
(i1)高歪みウエハに対応した高精度露光装置開発【GX】

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